摘要：本實用新型涉及一種金屬射頻反應室，設有腔體、電極板，其特征在于：所述腔體(1)為不銹鋼材質的方形腔體，其前面設有不銹鋼門(2)，腔體內壁的左右側面分別設有射頻電極板(3.1、3.2)，所述腔體底部設有可轉動的工件托盤(4)，工件托盤通過連接軸與腔體外的電機(5)傳動連接，所述腔體內頂部設有多孔氣體導流板(6)，腔體頂板上設有進氣孔(7)，腔體底板上設有與真空泵連接的排氣管(8)。所述腔體上設有工藝觀查窗(10)和真空檢測口(9)。本實用新型適用于硅片加工，結構新穎，操作靈活，加工效果好，使用壽命長，對環(huán)境不污染。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人劉薇;王廣明;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN200920109665.0
- 申請時間2009年06月30日
- 申請公布號CN201438453U
- 申請公布時間2010年04月14日
- 分類號H01L21/00(2006.01)I;
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