摘要：本發(fā)明公開了一種單晶圓干燥裝置，包括：工藝腔體(7)和設(shè)置在所述工藝腔體(7)中的晶圓支撐(20)，還包括：一端連接于所述工藝腔體(7)外壁上的進(jìn)氣管(6)和連接在所述進(jìn)氣管(6)上的第一氮?dú)廨斎牍苈?3)，所述進(jìn)氣管(6)的另一端與用于裝載異丙酮的蒸汽腔體(2)連接，所述蒸汽腔體(2)內(nèi)設(shè)有加熱裝置(1)，所述蒸汽腔體(2)出口和所述第一氮?dú)廨斎牍苈?3)內(nèi)均設(shè)有氣體質(zhì)量流量計(jì)，通過各個(gè)部件之間的配合，避免了干燥過程中產(chǎn)生水痕導(dǎo)致產(chǎn)品缺陷。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人張曉紅;吳儀;趙宏宇;王銳廷;
- 地址100016 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋東路1號(hào)M2號(hào)樓2層
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201010582195.7
- 申請(qǐng)時(shí)間2010年12月06日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102148133B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年09月05日
- 分類號(hào)H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I;F26B3/02(2006.01)I;
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