摘要：本實(shí)用新型公開了半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種腔室氣流控制系統(tǒng)。本實(shí)用新型包括PCC控制器和至少一個腔室控制單元；腔室控制單元包括壓力傳感器、風(fēng)機(jī)過濾器、和所述風(fēng)機(jī)過濾器連接的狀態(tài)檢測單元、與所述壓力傳感器、風(fēng)機(jī)過濾器和狀態(tài)檢測單元連接的數(shù)據(jù)處理單元、和所述數(shù)據(jù)處理單元連接的數(shù)據(jù)傳輸單元。本實(shí)用新型能夠?qū)η皇覂?nèi)的氣體壓力進(jìn)行實(shí)時控制，使得腔室內(nèi)的氣體壓力維持在設(shè)定值。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人張明;徐俊成;馬嘉;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201220710291.X
- 申請時間2012年12月20日
- 申請公布號CN203002142U
- 申請公布時間2013年06月19日
- 分類號B01D46/46(2006.01)I;
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