摘要：本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜儀，包括機(jī)架、真空室，真空室包括上蓋部件、下蓋部件、連接在上蓋部件與下蓋部件之間的石英玻璃罩，真空室內(nèi)頂部設(shè)置有磁控靶頭、真空室外頂部設(shè)置有與磁控靶頭連接的高壓連接器，機(jī)架上固定有用于控制高壓連接器的PLC控制器，機(jī)架上設(shè)置有通過(guò)進(jìn)氣管與真空室相連通的進(jìn)氣口，機(jī)架上還設(shè)置有與真空室相連通的出氣口，機(jī)架內(nèi)設(shè)置有磁控電源，磁控靶頭密封螺紋連接地固定在上蓋部件底面上，真空室內(nèi)底部對(duì)應(yīng)磁控靶頭下方的位置處固定有調(diào)節(jié)高度的濺射靶臺(tái)。本實(shí)用新型提供的鍍膜儀，降低儀器整體占用空間，真空室內(nèi)的氣密性好，濺射靶臺(tái)設(shè)計(jì)成可調(diào)節(jié)使用高度的形式，提高了適用性和靈活性。
- 專(zhuān)利類(lèi)型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人合肥科晶材料技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人邾根祥;方輝;江曉平;朱沫浥;王衛(wèi);
- 地址230031 安徽省合肥市長(zhǎng)江西路669號(hào)華源實(shí)業(yè)園
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201620521608.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年06月01日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN205821445U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年12月21日
- 分類(lèi)號(hào)C23C14/35(2006.01)I;
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