摘要：本實(shí)用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類金剛石碳膜沉積裝置，真空室的上蓋與真空室的室底相對，真空室的側(cè)壁連接上蓋和室底，以形成一腔室；側(cè)壁上開設(shè)有一開口；門體與真空室連接，用于蓋設(shè)于開口；電場平衡機(jī)構(gòu)可拆卸地連接在開口處的側(cè)壁上，用于補(bǔ)全開口，電場平衡機(jī)構(gòu)呈板狀，且，電場平衡機(jī)構(gòu)的尺寸大于等于開口的尺寸；陽極靶和陰極靶設(shè)置在真空室的內(nèi)部，且，陽極靶與陰極靶相對設(shè)置，陰極靶位于真空室的室底與陽極靶之間；驅(qū)動機(jī)構(gòu)穿過室底與陰極靶相連；抽真空裝置與真空室連通；充氣引入座設(shè)置在室底。本申請通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場平衡機(jī)構(gòu)，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場平衡。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人成都西沃克真空科技有限公司;
- 發(fā)明人向勇;傅紹英;徐子明;楊小軍;閆宗楷;
- 地址610200 四川省成都市雙流縣蛟龍工業(yè)港（雙流園區(qū)）東海路六段680號
- 申請?zhí)?/b>CN201620266888.8
- 申請時(shí)間2016年03月31日
- 申請公布號CN205529025U
- 申請公布時(shí)間2016年08月31日
- 分類號C23C16/26(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;
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