摘要：一種氣浴式等離子體消毒清洗裝置，包括帶有氣石的清洗池和等離子氣體發(fā)生器，等離子氣體發(fā)生器包括作為等離子體發(fā)生腔室的殼體和設(shè)在殼體外的氣體發(fā)生器，殼體的頂部設(shè)有氣體進(jìn)口，殼體的底部設(shè)有氣體出口，氣體進(jìn)口通過管道與氣體發(fā)生器相接，氣體出口通過輸氣軟管與氣石相接，殼體內(nèi)裝有等離子體發(fā)生裝置；所述的等離子體發(fā)生裝置包括橫向設(shè)置的電極帶，電極帶的兩側(cè)邊均設(shè)有向電極帶兩外側(cè)延伸的邊齒，電極帶與高頻高壓電源相接，殼體與接地電極相接。本實(shí)用新型通過多極放電，產(chǎn)生高濃度等離子體，經(jīng)氣石轉(zhuǎn)化為等離子氣泡，去除農(nóng)藥殘留，實(shí)現(xiàn)清洗和消毒。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請人連云港佑源醫(yī)藥設(shè)備制造有限公司;
- 發(fā)明人張建斌;陳長才;肖雷;
- 地址222000 江蘇省連云港市連云港經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)大浦工業(yè)區(qū)臨浦路20號
- 申請?zhí)?/b>CN201520534075.8
- 申請時間2015年07月22日
- 申請公布號CN204837850U
- 申請公布時間2015年12月09日
- 分類號A23L1/015(2006.01)I;A47J43/24(2006.01)I;A61L2/14(2006.01)I;
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