摘要：本申請實施例提供了一種激光打標(biāo)的校正方法，包括：獲取待打標(biāo)圖像；在激光打標(biāo)機(jī)預(yù)設(shè)的坐標(biāo)系中，確定所述待打標(biāo)圖像的斷裂區(qū)和非斷裂區(qū)；采用預(yù)設(shè)修正公式對待打標(biāo)圖像的非斷裂區(qū)進(jìn)行校正；采用預(yù)設(shè)標(biāo)準(zhǔn)修正值和與坐標(biāo)位置對應(yīng)的預(yù)設(shè)加權(quán)系數(shù)對待打標(biāo)圖像的斷裂區(qū)進(jìn)行校正；采用校正后的待打標(biāo)圖像進(jìn)行打標(biāo)。本申請通過對斷裂區(qū)內(nèi)的打標(biāo)點按細(xì)分的坐標(biāo)位置進(jìn)行加權(quán)校正，實現(xiàn)對斷裂區(qū)的失真校正。并且不需要測量高密度高精度的打標(biāo)區(qū)域的偏差值。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人深圳市創(chuàng)鑫激光股份有限公司;
- 發(fā)明人宋君;蔣義新;何高鋒;蔣峰;
- 地址518103 廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道和一社區(qū)第三工業(yè)區(qū)明鑫工業(yè)園第一棟第三層B
- 申請?zhí)?/b>CN201510606880.1
- 申請時間2015年09月22日
- 申請公布號CN105252911B
- 申請公布時間2017年04月12日
- 分類號B41J2/435(2006.01)I;B41J3/407(2006.01)I;
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