摘要：本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體制造的氧化爐保溫桶及氧化方法，該保溫桶包括底座、固定于底座上的限位柱、至少一片鰭片，該鰭片被限位柱阻擋以防止掉落并平行層疊于底座上，該鰭片之間具有一間隙。本發(fā)明的保溫桶具有可拆卸式的一片或多片鰭片，通過支柱安裝在保溫桶的底座上，根據(jù)不同濕氧工藝溫度需求來調(diào)整鰭片的數(shù)量，能有效防止低工藝溫度時(shí)水蒸汽形成的水珠對工藝和器件產(chǎn)生的不良影響，同時(shí)避免高工藝溫度對工藝門密封部件造成的損傷。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人林偉華;蘭天;宋辰龍;王兵;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
- 申請?zhí)?/b>CN201410117707.0
- 申請時(shí)間2014年03月27日
- 申請公布號CN103871940A
- 申請公布時(shí)間2014年06月18日
- 分類號H01L21/673(2006.01)I;
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