摘要：本發(fā)明公開了一種氣液兩相霧化清洗裝置，涉及半導(dǎo)體晶片工藝技術(shù)領(lǐng)域，所述裝置包括氣液兩相霧化噴頭，還包括液相流體的流量控制裝置。本發(fā)明的氣液兩相霧化清洗裝置在清洗過程中增加了垂直于晶片溝槽的物理力，促進(jìn)晶片溝槽中雜質(zhì)和污染物向液相流體主體的傳遞，提高了清洗的效率和效果；同時(shí)本發(fā)明通過液相流體的流量控制裝置來降低液相流量，采用霧化流體沖洗晶片表面，減少了對晶片的破壞。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人蘇宇佳;吳儀;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201210506549.9
- 申請時(shí)間2012年11月30日
- 申請公布號CN103008299A
- 申請公布時(shí)間2013年04月03日
- 分類號B08B7/04(2006.01)I;B05B7/04(2006.01)I;B05B7/12(2006.01)I;
教育裝備采購網(wǎng)企業(yè)微信客服
京公網(wǎng)安備11010802043465號
