摘要：本發(fā)明公開了可實(shí)現(xiàn)高消光比的雙電光開關(guān)裝置：高消光比雙電光開關(guān)裝置，包括：二分之一波片、起偏器，第一電光開關(guān)晶體，第一檢偏器，第一廢光收集器，第二電光開關(guān)晶體，第二檢偏器，第三檢偏器，第二廢光收集器及電光開關(guān)驅(qū)動(dòng)控制電源，此裝置可實(shí)現(xiàn)高壓關(guān)斷、低壓關(guān)斷兩種工作模式。本發(fā)明采用雙電光開關(guān)，可以大大提高開關(guān)的消光比，系統(tǒng)消光比提高上百倍。滿足工業(yè)精細(xì)加工領(lǐng)域?qū)Ω呦鹊碾姽鈹夭ㄩ_關(guān)的需求。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人中國(guó)科學(xué)院光電研究院;北京國(guó)科世紀(jì)激光技術(shù)有限公司;
- 發(fā)明人麻云鳳;余錦;張雪;牛崗;樊仲維;趙天卓;楊軍紅;
- 地址100094 北京市海淀區(qū)西北旺鎮(zhèn)鄧莊南路9號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210442195.6
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年11月08日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102928999A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2013年02月13日
- 分類號(hào)G02F1/03(2006.01)I;
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