摘要：本發(fā)明涉及一種雙光路全反射X熒光分析儀，包括至少兩只不同的激發(fā)源(X光管)、上反射體、下反射體、載樣片、樣品壓環(huán)，所述的兩只不同的激發(fā)源共用同一電源并可自動(dòng)切換。兩只激發(fā)源與載樣片和樣品壓環(huán)之間，各設(shè)有上反射體和下反射體，所述的上反射體和下反射體之間有很小間距，X射線以非常小的掠射角射入該間隙，并在上反射體和/或下反射體的反射面上產(chǎn)生全反射，最終到達(dá)被測(cè)樣品處。本發(fā)明所述雙光路全反射X熒光分析儀的優(yōu)點(diǎn)在于：可以使用于測(cè)試不同的元素，使用中不需要多次更換激發(fā)源，多次切斷電源、調(diào)整光路等，可以明顯提高測(cè)試效率。并使得在分析靈敏度上由于使用不同激發(fā)源而得到互補(bǔ)提高，可操作性和方便性明顯，能更好地滿足使用者要求。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人北京普析通用儀器有限責(zé)任公司;
- 發(fā)明人田宇纮;
- 地址100081北京市海淀區(qū)中關(guān)村南大街甲8號(hào)威地科技大廈
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200610111339.4
- 申請(qǐng)時(shí)間2006年08月23日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN101131370A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2008年02月27日
- 分類號(hào)G01N23/223(2006.01);
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